為什么光刻機(jī)造不出來(lái)，光盤(pán)刻錄機(jī)也是進(jìn)口的呢？

技術(shù)啊

不太懂呢  國(guó)產(chǎn)的沒(méi)有嗎

幾十年前那么窮，原子彈都能研究出來(lái)了。

以前的確比別人落后。我們拭目以待吧。再難的技術(shù)，我們也能克服，早晚能?chē)?guó)產(chǎn)化。

技術(shù)跟不上

無(wú)知

光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對(duì)準(zhǔn)光刻。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程。

要知道光刻機(jī)制造的難度，就得知道光刻機(jī)的幾個(gè)關(guān)鍵部件：

光源：必須穩(wěn)定、高質(zhì)量地提供***波長(zhǎng)的光束

能量控制器：就是電源。電源要穩(wěn)定、功率要足夠大，否則光源發(fā)生器沒(méi)辦法穩(wěn)定工作。大、穩(wěn)、同時(shí)要考慮經(jīng)濟(jì)性能。耗電太高，客戶(hù)就用不起。

掩膜版：通俗點(diǎn)理解，相當(dāng)于過(guò)去用膠片沖洗照片時(shí)的底片。底片如果精度不夠，是洗不出來(lái)高精度照片的。光刻機(jī)施工前，要根據(jù)設(shè)計(jì)好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質(zhì)是石英玻璃，玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過(guò)激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。

透鏡：用透鏡的光學(xué)原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會(huì)產(chǎn)生光學(xué)誤差。要控制這個(gè)誤差。精度要求很高。

就是測(cè)量臺(tái)移動(dòng)的控制器，也是納米級(jí)精度，要求超高。

荷蘭的ASML公司壟斷了高端光刻機(jī)。但其透鏡來(lái)自德國(guó)的蔡司，自己也做不了。光源是美國(guó)的Cymer。所以說(shuō)它也不是完全技術(shù)獨(dú)立。主要是技術(shù)難度太大。

資金上的困難

光刻機(jī)由于技術(shù)難度大，研發(fā)資金投入巨大，以至于佳能和索尼都虧損嚴(yán)重，已經(jīng)停止研發(fā)，退出未來(lái)技術(shù)的競(jìng)爭(zhēng)。荷蘭的ASML，為了籌集資金，同時(shí)也是進(jìn)行上下游利益捆綁，研發(fā)風(fēng)險(xiǎn)共擔(dān)，邀請(qǐng)英特爾、三星和臺(tái)積電出資，做自己的大股東。ASML實(shí)際上是美、日、韓、德等共同投資的項(xiàng)目，資金充裕。

中國(guó)也在此方面有長(zhǎng)期投入，但投入水平和不能和多國(guó)合作同日而語(yǔ)。中國(guó)有相對(duì)寬裕的研發(fā)資金，也才是最近7、8年的事情，而光刻機(jī)的研發(fā)，10年都顯然不夠。

我們能不能也參與到荷蘭的ASML的研發(fā)中呢？是不行的。因?yàn)榘l(fā)達(dá)國(guó)家之間，由美國(guó)牽頭，搞了個(gè)《瓦森納協(xié)定》，專(zhuān)門(mén)對(duì)中國(guó)進(jìn)行技術(shù)禁運(yùn)，技術(shù)封鎖的。我們也買(mǎi)不到荷蘭的ASML***的光刻機(jī)，更別說(shuō)參股和技術(shù)合作了。

目前我們還在追趕，量產(chǎn)的是上海微電子的90納米的，離ASML的10 納米的差距很大。下一步，隨著長(zhǎng)春光機(jī)所的極紫外光技術(shù)的突破，有望沖擊22-32納米的技術(shù)。那時(shí)荷蘭可能進(jìn)入7納米時(shí)代。雖然和7納米還有很大差距，但如果能實(shí)現(xiàn)，進(jìn)步也是驚人的。如果能做出量產(chǎn)型，就是***的水平了。

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哈哈。。。首先看看技術(shù)難度嘍，再就是看看有錢(qián)賺沒(méi)。
光盤(pán)刻錄機(jī)以前好像國(guó)內(nèi)是有的，現(xiàn)在著東西還有人用么？？不是淘汰了么？

核心技術(shù)的困擾